臺(tái)式等離子清洗機(jī)NE-PE13FH

產(chǎn)品型號(hào)：NE -PE13FH
性能特點(diǎn)：體積小巧，操作簡(jiǎn)單
產(chǎn)品用途：硅片晶圓去膠，電子元器件清洗

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產(chǎn)品介紹
產(chǎn)品參數(shù)

NE-PE13FH臺(tái)式桌面型等離子清洗機(jī)主要由高頻電源、電極、真空室、真空泵、控制系統(tǒng)等幾部分組成，其清洗原理如下：在真空狀態(tài)下，腔體內(nèi)的電極形成高頻率的交變電場(chǎng)，氣體在交變電場(chǎng)的激蕩下形成等離子體，被清洗的物體在活性等離子的反復(fù)物理轟擊及化學(xué)反應(yīng)的雙重作用下，使其表面灰塵、雜質(zhì)、氧化物等變成粒子或氣態(tài)物質(zhì)，這些粒子及氣態(tài)物質(zhì)在機(jī)器真空的抽離下排出，從而達(dá)到清洗的目的。目前等離子清洗是以氬氣和氧氣的混合氣體清洗為主，氧氣是利用自由原子以化學(xué)方法祛除有機(jī)物,清洗速度快、清洗比較干凈，適合不易氧化的載體。

NE-PE13FH臺(tái)式等離子清洗機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)：

1. 臺(tái)式桌面型等離子清洗機(jī)，性能穩(wěn)定、操作簡(jiǎn)便、使用成本極低、易于維護(hù)，高性價(jià)比。
2. 體積小巧，有效處理面積大，可以輕松處理8寸硅片去膠等應(yīng)用
3. 采用平板氣浴電極，清洗效率高，電極間距可調(diào)
4. 靈活的電極配置方案，最多可以處理2片8寸硅片
5. 對(duì)各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進(jìn)行超清洗和表面改性。
6. 可實(shí)現(xiàn)電子元器件、組件及各種基板表面的等離子清洗，可有效去除連接表面的油污、雜質(zhì)及氧化膜等。

等離子清洗機(jī)常見應(yīng)用：

1、等離子體表面處理技術(shù)已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于OLED和有機(jī)太陽(yáng)電池中。如氧等離子體處理ITO表面有效清潔ITO，提高ITO表面浸潤(rùn)性同時(shí)提高ITO的功函數(shù)，降低ITO和活性層的勢(shì)壘，提高器件的光電性能。
2、鍵合前對(duì)框架/基板進(jìn)行等離子清洗，去除鍵合表面的有機(jī)沾污。鍵合前后增加等離子清洗工序，以提高鍵合強(qiáng)度和模塑料與框架/基板界面結(jié)合強(qiáng)度；
3、利用等離子清洗機(jī)，將PDMS片、玻璃基片同時(shí)通過等離子照射的方式，將其表面氧化成為帶有自由基的活性基團(tuán)，再將PDMS與玻璃基因立即壓合，從而將它們鍵合到一起。
4、通過等離子體處理材料表面或等離子體接枝來改變表面結(jié)構(gòu)，處理后的纖維上染率明顯提高，而且纖維的浸潤(rùn)性也明顯得到改善。
5、等離子處理也經(jīng)常被用于改性聚合物的表面，這種方法不會(huì)改變聚合物本體的性質(zhì)。

等離子清洗是使用電能催化物理化學(xué)反應(yīng)為手段，是一種干法清洗方式，它排除了所有濕法清洗帶來的危險(xiǎn)，且無(wú)廢液產(chǎn)生。等離子高能離子的方向性不強(qiáng)，可以深入到物體微小孔和不規(guī)則圖形結(jié)構(gòu)內(nèi)部進(jìn)行清洗，受工件形狀的影響較小。

型號(hào)	小型臺(tái)式等離子清洗機(jī)NE-PE13FH
真空腔材質(zhì)	不銹鋼
真空腔體尺寸	240(W)280(D)200(H)mm; 13.5L
電極	3層平板氣浴電極
有效處理范圍	205(W)×205(D)×30.5(H)mm
等離子發(fā)生器頻率	13.56MHz
氣體通道	2路（氧氣、氬氣等，可增加）
功率	0-300W連續(xù)可調(diào)
氣體控制	質(zhì)量流量計(jì)0-500SCCM
真空計(jì)	皮拉尼真空計(jì)
控制方式	7寸觸摸屏+PLC控制
外形尺寸	640mm(W)×665mm(D) ×580 mm(H)
電源	220V

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臺(tái)式等離子清洗機(jī)NE-PE13FH

NE-PE13FH臺(tái)式等離子清洗機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)：

等離子清洗機(jī)常見應(yīng)用：

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