等離子清洗機與極紫外（UV）清洗機的區(qū)別與聯(lián)系

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2022-07-12

等離子清洗技術(shù)

等離子體清洗技術(shù)是采用氣體作為清洗介質(zhì)，由于沒有使用液體清洗介質(zhì)，故不會帶來二次污染。等離子體清洗設(shè)備在工作時真空清洗腔中的等離子體輕柔沖刷待清洗表面，在很短的時間內(nèi)就可以把污染物徹底的清洗掉，同時使用真空泵把污染物抽走，該種方法的清洗程度可以達到分子級的。等離子技術(shù)在工件表面的清洗去污、表面噴涂、表面改性、刻蝕等領(lǐng)域廣泛應用。

典型的等離子物理清洗工藝是氬氣等離子清洗，氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應，而是通過離子轟擊使表面清潔。典型的等離子化學清洗工藝是氧氣等離子清洗，通過等離子體產(chǎn)生的氧自由基非?；顫?，容易與碳氫化合物發(fā)生反應，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物，從而去除表面的污染物。

紫外光清洗技術(shù)

紫外光清洗技術(shù)是利用紫外光發(fā)出的特種波長的光子能量，對物體表面吸附的有機物（碳氫化合物）發(fā)生光敏氧化作用，達到去除粘附在物體表面上的碳氫化合物。經(jīng)過光清洗的物體表面潔凈度能達到一般清洗方法難以達到的原子級清潔度。如果在光敏氧化過程中，被清洗物體表面具有光催化作用，不僅能加快紫外光清洗的過程，而且清洗的效果更為徹底。

清洗時由大功率高強度的紫外光光源發(fā)出兩個特定波長的光子能量作用于被清洗物體表面，由于粘附在物體表面的污染物大多為有機物，大多數(shù)的有機物對短波紫外線有較強的吸收能力，有機物分子在吸收了短波紫外線后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中性分子。真空紫外線可使空氣中的氧氣電離產(chǎn)生臭氧和原子氧，臭氧對短波紫外線同樣具有強烈的吸收作用，在短波紫外線光子能量的作用下，臭氧又分解為氧氣和原子氧，原子氧是極為活潑的，在它的作用下，物體表面的有機污染物很快氧化成二氧化碳和水，在一定的溫度下，兩者都可以從物體表面揮發(fā)掉，起到清潔物體表面的作用。

紫外光清洗技術(shù)的應用范圍十分廣泛，例如：各種材料（ITO玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜版、拋光石英晶體、硅）晶片和帶有氧化膜的金屬等的精密清洗處理；清除石蠟、松香、油脂、人體體油以及殘余的光刻膠、聚酰亞胺和環(huán)氧樹脂；高精度印制電路板焊接前的清洗和殘余焊劑去除，以及敷銅箔層壓板的表面清潔和氧化層生成；超高真空密封技術(shù)和熱壓焊接前的表面清潔處理以及各種微型元件的清洗等。

等離子清洗機與紫外清洗機的區(qū)別與聯(lián)系（以ITO玻璃清洗為例）

等離子清洗機可以在真空狀態(tài)下形成等離子體，可以對ITO/玻璃基底進行物理轟擊和化學反應雙重作用，使基底表面物質(zhì)變成粒子和氣態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過抽真空排出，而達到清洗的目的，它可以達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果，不僅可以去除有機污染物、油污或油脂，還能夠改變ITO的功函數(shù)，改善材料表面的浸潤能力，有利于后續(xù)的傳輸層溶液的涂覆。

在LCD行業(yè)中,清洗是指清除吸附在玻璃表面的各種有害雜質(zhì)或油污的工藝,沒有經(jīng)過紫外光清洗的氧化銦錫(ITO)玻璃基片,在俄歇電子能譜分析曲線上會看到有明顯的碳峰,表明有碳氫化合物存在。而經(jīng)過紫外光清洗的ITO玻璃的俄歇電子能譜分析曲線上的碳峰消失了,表明ITO玻璃表面已經(jīng)沒有殘存的碳氫化合物,達到了原子清潔度。

總的來看兩種清洗方式都能去除ITO表面的有機物，但是等離子清洗機相較于紫外清洗機，不僅能去除ITO玻璃表面有機物雜質(zhì)，還有利于提高ITO表面的功函數(shù)和改善表面親水性。

綜上所述：紫外清洗機和等離子清洗機都能有效去除材料表面的有機污染物，但是等離子清洗機在清洗完材料表面的有機污染物的同時，還能改變材料的某些性能，如親水性等。在ITO玻璃清洗方面，完全可以用等離子清洗機來替代紫外清洗機。