等離子清洗技術(shù)在OLED制備過程中的應(yīng)用

文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2023-10-04

有機(jī)發(fā)光二極管（organiclightemittingdiode，OLED）是一種電流型的有機(jī)發(fā)光器件，通過載流子的注入和復(fù)合而發(fā)光的現(xiàn)象。在電場的作用下，陽極產(chǎn)生的空穴和陰極產(chǎn)生的電子就會發(fā)生移動，分別向空穴傳輸層和電子傳輸層注入，遷移到發(fā)光層。當(dāng)二者在發(fā)光層相遇時，產(chǎn)生能量激子，從而激發(fā)發(fā)光分子最終產(chǎn)生可見光。整個器件結(jié)構(gòu)層中包括：空穴傳輸層（HTL）、發(fā)光層（EL）和電子傳輸層（ETL）。其制備工藝可以分為小分子OLED工藝技術(shù)和聚合物PLED工藝技術(shù)兩大類。小分子OLED通常采用蒸鍍技術(shù)進(jìn)行制備；PLED一般采用溶液涂布的方式。OLED顯示技術(shù)具有自發(fā)光、廣視角、幾乎無窮高的對比度、較低耗電、極高反應(yīng)速度等優(yōu)點(diǎn)，近些年得到了非常快速的發(fā)展

盡管OLED有諸多優(yōu)點(diǎn)，但是在制備過程中仍需要克服一些加工問題，其中最為關(guān)鍵的即為清洗。例如，在玻璃基板加工前需要對其表面進(jìn)行清洗，如果玻璃表面帶有污染物，其表面自由能變小，從而導(dǎo)致蒸鍍在上面的空穴傳輸層發(fā)生聚集，導(dǎo)致成膜不均。

等離子清洗技術(shù)

等離子體又稱之為plasma，被視為是除去常見的固、液、氣之外物質(zhì)存在的第四態(tài)，呈離子化氣體狀。根據(jù)等離子體自身的熱平衡狀態(tài)，等離子體可以分為兩類，分別為熱平衡等離子體和非熱平衡等離子體。非熱平衡態(tài)等離子體也稱為低溫等離子體，適用于多種材料的表面清洗改性。

等離子體清洗是通過電源激發(fā)等離子體轟擊基材表面，在轟擊的過程利用物理沖擊可以去除吸附在基材表面的微顆粒，同時可能造成基材表面的微刻蝕；因此可以用于基材的超精密清洗。等離子體在轟擊基材表面的污染物時，還可以與污染物進(jìn)行反應(yīng)，形成容易揮發(fā)的物質(zhì)，利用真空抽走，對基材表面的有機(jī)物殘留具有較好的去除作用。等離子體清洗的最大特點(diǎn)是：大部分處理對象的基材類型，均可以進(jìn)行處理。

ITO作為OLED器件中常用的陽極材料，其表面的平整性及清潔性對器件性能有著重要的影響。然而，由于ITO基片采用光刻蝕工藝制備，在此過程中有機(jī)物會不可避免地殘留在其表面。此外，一些粒徑為微米級的灰塵、油污以及微生物等污染物還常存在于其表面。這將直接破壞后續(xù)有機(jī)功能層的連續(xù)性和致密性，降低器件性能。因此，需要清洗ITO基片并進(jìn)行表面處理，除去污染物以提高基底的表面潤濕性。

氧等離子不僅可以改變ITO表面的化學(xué)組成,提高功函數(shù)等，還能徹底清除玻璃基片殘留的有機(jī)物，以便于其他功能層更好地沉積成膜，對OLED器件性能具有較好的提升作用。