大氣常壓直接等離子清洗與遠程等離子清洗
文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2022-09-01
常壓大氣直接等離子清洗(direct plasma)與遠程等離子清洗(remote plasma)最大的差別在于前者電極構造設計成電場外漏，等離子體放電時，解離反應可以延續(xù)至噴頭外，甚至把試片作為電極的一部分，因此直接型等離子體的等離子效率較高，但由于電場外漏，極容易對導電試片造成電弧擊傷或靜電擊傷問題，因此直接型等離子清洗無法使用在會導電的試片上；另外應用在導電的試片處理時也要注意因電場外漏產生的電弧及絲狀放電對等離子處理時的均勻性多少也會造成影響。遠程等離子清洗機則是經由適當的電極設計，等離子體產生后再由出口送達試片表面，由于等離子體被隔離，因此沒有靜電擊傷的問題，但等離子體也相對較弱，尤其是remoteDBD在使用空氣作為工作氣體時，效果遠遠不及使用N2remoteDBD等離子體。
遠程等離子體清洗技術在實際應用的過程中，工藝非常簡單，同時操作方便，處理的效率非常高，且無需廢液、廢氣處理，對環(huán)境無污染，可以極大地節(jié)約能源，降低成本。
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