等離子清洗設(shè)備能加高溫嗎？

文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2022-09-01

集成電路生產(chǎn)工藝需求，前期芯片制造，后期封裝及混合電路等的可持續(xù)發(fā)展;陶瓷、石英、高分子工程塑料等表面納米級(jí)的活化改性，由非極性到帶有一層納米級(jí)的極性材料表層，以提高材料表面物理和化學(xué)的粘接印刷涂覆上漆性能，最貼近生活化的如制鞋業(yè)的工藝生產(chǎn)需求，連接器上logo的印刷等;LCD液晶顯示屏表面有機(jī)物干擾材料的去除;金屬表層氧化物的去除等;等離子清洗的應(yīng)用例子極為廣泛，而在等離子清洗設(shè)備反應(yīng)腔室的電極載物托盤(pán)上進(jìn)行托盤(pán)等離子有效區(qū)的整體均勻加熱行程高溫處理環(huán)境，在腔室四周外壁和真空門(mén)進(jìn)行水冷，成為了促進(jìn)等離子處理過(guò)程的有效方法。

溫度是等離子體產(chǎn)生的極重要因素，太陽(yáng)及太陽(yáng)風(fēng)(太陽(yáng)日冕)、熱核聚變就是典型的例子，研究不同溫度下等離子清洗系統(tǒng)內(nèi)等離子的密度活性，處理速度及均勻性，可選擇性地得到適宜的材料處理種類(lèi)及厚度和處理后表面材料特性，并且不會(huì)對(duì)基材表面產(chǎn)生等離子損傷及熱損傷，這項(xiàng)技術(shù)具有很大的實(shí)用意義。此方面應(yīng)用需求將越來(lái)越大，尤其是持續(xù)發(fā)展與需求的半導(dǎo)體集成電路生產(chǎn)領(lǐng)域。