等離子清洗設備原理
文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2022-05-24
等離子清洗設備一般包括反應腔室，電控系統(tǒng)，射頻電源，真空系統(tǒng)以及操作系統(tǒng)等，射頻等離子清洗設備的原理是通過真空系將真空腔體袖至10-30PA左右的真空度，然后向真空腔體中通入氬氣或者氧氣等反應氣體，當真空度約為10-100PA時開啟巧頻電源，調節(jié)射頻匹配電源，起輝形成等離子體。在真空狀態(tài)下，因為氣壓較小，分子間的間距變大，從而使得分子間的作用為變小，利用射頻電源產生的高壓交變電場將氧、氬氣等工藝氣體震蕩成具有高能量或者高反應活性的離子，與有機污染物或者微顆粒反應、碰撞形成揮發(fā)性物質，揮發(fā)性物質由工作氣流從真空系排出去從而達到清洗的目的。
等離子清洗設備原理
等離子體主要是通過氣體放電產生，應用于材料處理通常為低溫等離子體，能量只有幾十電子伏特。其作用強度高、穿透力小。具有工藝簡單、高效節(jié)能、處理效果好、環(huán)境污染小等優(yōu)點，作用于材料表面會使其產生一系列的物理、化學變化。等離子清洗設備的清洗原理則是通過等離子體中所包含的具有一定反應活性或高能量的粒子，與材料表面的有機污染物或微顆粒污染物反應或碰撞形成揮發(fā)性物質。然后將這些揮發(fā)性物質清除出去。從而達到表面清潔的目的。
等離子體清洗的反應類型還與活化氣體的種類有關，一類為惰性氣體被激發(fā)產生的等離子體(如Ar2、N2等)；另一類為反應性氣體被激發(fā)產生的等離子體(如02、H2等)。氬氣等離子體清洗是典型的等離子體物理清洗工藝。主要通過離子轟擊使表面清潔而不和材料表面發(fā)生化學反應。氧氣等離子體清洗是典型的等離子體化學清洗工藝．主要通過等離子體所產生的活潑氧自由基與材料表面的碳氫化合物發(fā)生反應，產生二氧化碳和水等易揮發(fā)物．從而達到去除污染物的效果。
等離子清洗設備清洗原理
等離子體物理清洗工藝所產生的效果主要是材料表面的粗糙度增加。有助于提高材料表面的附著力；等離子體化學清洗過程中材料表面活化形成的自由基，能夠進一步加成特定的官能團。如含氧、含氮官能團等，對改善材料的粘著性和潤濕性能起著明顯作用。因此，對等離子體清洗類型的選擇主要取決于材料表面的原有特征、材料表面污染物的性質以及后續(xù)處理工藝對材料表面的特性要求等。
以上就是國產等離子清洗機廠家納恩科技關于等離子清洗設備原理的簡單介紹，等離子體是一種電中性、高能量、全部或部分離子化的氣態(tài)物質，包含離子、電子、自由基等活性粒子。等離子清洗設備原理可做如下解釋：通過抽真空，對真空腔體內的氣體施加足夠的能量使之離化為等離子體，一方面生成的等離子體可對樣品表面的污染物進行分解并將其帶走，實現清洗目的。等離子清洗是一種干式清洗技術，能夠替代傳統(tǒng)的濕法清洗技術。能夠在不破壞材料表面特性的前提下，有效清除材料表面的微塵及其它污染物。
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