等離子清洗有機(jī)物原理
文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2022-05-20
等離子清洗在清洗過(guò)程中通過(guò)射頻電源電離真空腔內(nèi)氣體產(chǎn)生等離子體，等離子體具有高能量可以通過(guò)物理作用轟擊金屬表面使金屬表面的污染物從金屬表面脫落，其次電離某種氣體可以產(chǎn)生對(duì)應(yīng)的活性粒子，活性粒子會(huì)與表面的有機(jī)物或者氧化物等發(fā)生化學(xué)反應(yīng)進(jìn)而生成易于揮發(fā)的物質(zhì)可以被真空泵排出反應(yīng)腔體達(dá)到清洗物體表面的效果。
氣體所產(chǎn)生的自由基和離子活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵，在任何暴露的表面引起化學(xué)反應(yīng)。等離子體中粒子的能量一般約為幾個(gè)至幾十電子伏特，大于聚合物材料的結(jié)合鍵能(幾個(gè)至十幾電子伏特)，完全可以破裂有機(jī)大分子的化學(xué)鍵而形成新鍵；但遠(yuǎn)低于高能放射性射線，只涉及材料表面，不影響基體的性能。
等離子清洗有機(jī)物原理
等離子體清洗過(guò)程仍然包含物理作用和化學(xué)反應(yīng)兩種清洗過(guò)程。對(duì)氧氣參與的等離子清洗，其化學(xué)反應(yīng)主要是有機(jī)物與氧自由基發(fā)生反應(yīng)生成較小的氣體分子被泵抽走。其反應(yīng)式
CxHy+O2+e-→CO(氣)+CO2(氣)4+H2O(氣)
等離子清洗主要優(yōu)點(diǎn)是清洗速度快，能有效去除有機(jī)污染物。一般清洗是以物理過(guò)程為主，高能量的粒子轟擊基板表面，其作用就如濺射，被濺射出來(lái)表面粘附物小分子同樣會(huì)被泵抽走，轟擊也會(huì)使有機(jī)物分解成小分子而被泵抽走。等離子作用可以深入物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部并完成清洗任務(wù)，其效果相當(dāng)好。
在傳統(tǒng)工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程中，等離子體清洗在對(duì)金屬表面有機(jī)污染物的清洗中的應(yīng)用越來(lái)越廣泛，氣體電離產(chǎn)生的高能粒子（如電子、激發(fā)態(tài)原子等）可以通過(guò)物理作用轟擊金屬表面或者產(chǎn)生的活性粒子通過(guò)化學(xué)作用與金屬表面有機(jī)污染物發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成新的物質(zhì)從而將污染物從金屬表面去除。對(duì)氧氣參與的等離子清洗，其化學(xué)反應(yīng)主要是有機(jī)物與氧自由基發(fā)生反應(yīng)生成較小的氣體分子被泵抽走。
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