光刻膠去膠工藝
光刻膠是通過掩膜模板將圖像轉(zhuǎn)移到膠片上的載體。一旦三維圖像被轉(zhuǎn)移到覆蓋層上，就不再需要光刻膠，并完全消除了。壓印的殘留物需要和圖像一起處理。一般來說，有兩種類型的清除方法：濕法和干法。
濕法去膠一般分為兩種類型：有機溶液去膠和無機化學(xué)介質(zhì)去膠。機溶液去膠通常是通過將光刻膠溶解在有機合成介質(zhì)中來進行的，而無機化學(xué)介質(zhì)去膠則是運用無機化學(xué)介質(zhì)(如H2SO4和H2O2)光刻膠的碳化產(chǎn)生超臨界二氧化碳，去除光刻膠。用濕法去除光刻膠的另一主要方法是直接去除光刻膠。去除方法有時用于去除無法分離的光刻膠殘留物。在某些情況下，在干法蝕刻前必須對光刻膠表層進行保護，以防止其溶入排膠。
干法去膠指的是對光刻膠的平等剝離。使用脫膠材料的一種常見方法是通過氧氣、微波或射頻功率非常快速地激發(fā)活性氧（活性氧原子），這可以從光刻膠中的碳（氫反應(yīng)物）中產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水，而這種產(chǎn)生物也會被真空裝置抽出，以便于將光刻膠剝落。這種方法通常被稱之為光刻膠的表面揮發(fā)法。也可能在氧氣中添加一定比例的氮氣或氫氣，以改善光去膠的穩(wěn)定性和提高對殘留聚合物的消除。
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