產品進行等離子清洗的好處

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2023-12-19

等離子清洗設各的工作原理是在真空狀態(tài)下，利用射頻能量供給裝置產生的高壓交變電場將工藝腔室內的氧、氬、氮等工藝氣體震蕩形成具有高能量和高反應活性的等離子體，活性等離子體與微顆粒污染物或有機污染物發(fā)生物理轟擊或化學反應，使被清洗表面物質變成粒子和揮發(fā)性氣態(tài)物質，然后隨工作氣流經過抽真空排出，從而達到清潔、活化表面的目的。

等離子清洗機的干式清洗方式能夠在不破壞產品表面材料特性的情況下去除附著在產品表面的污染雜質，該方法與其它清洗方式相比占有明顯優(yōu)勢。

等離子清洗好處如下：

１）清洗過程只需幾分鐘即可完成，清洗時等離子可滲透到物體細小的角落并完成清洗任務，因此清洗效率高；
２）經過等離子清洗后被清洗器件己經很干燥，無需再進行干燥處理。
３）清洗時產生的氣體及汽化的污垢被排出，在器件上無殘留物；
４）可清洗不同的基材，使用材料范圍廣；
５）節(jié)省廢物處理費用。
６）設置好參數(shù)后不需要人工干預，并可以精確控制清洗時間:
７）規(guī)范的等離子清洗過程不會對產品表面產生損傷，且清洗過程是在真空環(huán)境中進行，清洗表面不會被灰塵、氧化等二次污染；

產品進行等離子清洗的好處：產品進行完等離子清洗可以改善表面張力，提高表面浸潤性，達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果，可以提高后續(xù)粘接，印刷，鍍膜等工藝的表面附著力。

以上就是關于等離子清洗的好處介紹，等離子清洗機清洗優(yōu)勢明顯，操作簡單，精度可控，整個過程無需加熱，不會產生任何的污染，安全可靠，該設備在半導體封裝領域中有著大規(guī)模的應用。