真空等離子清洗機運行原理及其運行流程示意圖

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2022-09-21

真空等離子清洗機它由13.56MHz射頻電源發(fā)生器、電子控制系統(tǒng)、自動匹配系統(tǒng)和等離子體放電腔體四部分構(gòu)成。外接真空泵系統(tǒng)可通入不同氣體，例如氬氣、氧氣、及氟化氣體等。放電腔體的兩側(cè)壁有數(shù)個可調(diào)節(jié)極板間距的支架可用于放置極板。電極板是一組平行的、極性交替的、板上均勻布置了若干通孔的金屬板，一般真空腔體中設(shè)計有多組平行電極板，電極板的數(shù)量和大小取決于真空腔體的尺寸大小。其結(jié)構(gòu)簡圖如圖1.1所示。

圖1.1 真空等離子清洗機結(jié)構(gòu)示意圖

真空等離子清洗機運行原理如下：

真空等離子清洗機中產(chǎn)生等離子體的結(jié)構(gòu)是兩個平行電極板，在密封的腔體中通電后在兩板之間產(chǎn)生強電場，其放電裝置如圖1.2所示。用真空泵達到一定的真空度（0.3MPa-1MPa）后，腔體內(nèi)的氣體非常稀薄，氣體分子的間距以及分子或者離子的平均自由運動長度將會增大，它們在正負電場的作用下碰撞形成等離子體。這些高能離子可以打斷化學鍵，并在直接接觸的樣品表面進行化學反應(yīng)。各種氣體的等離子體具有不同的化學性質(zhì)，向真空等離子清洗機中通純氧后加電壓而形成的等離子體的氧化性能很強，不僅能完成金屬層氧化，同時還能達到清洗的目的。

圖1.2 真空等離子清洗機放電原理示意圖

真空等離子清洗機的運行流程如下：

1、打開真空等離子清洗機反應(yīng)倉門，將產(chǎn)品放入極板上，也可以放在托盤上；

2、設(shè)置好所需要的工作參數(shù)后，關(guān)閉真空反應(yīng)倉門；

3、反應(yīng)倉完全閉合到位后，開始抽真空，真空工作腔內(nèi)的壓力將持續(xù)下降，直至設(shè)定的基礎(chǔ)壓力，基礎(chǔ)壓力一般設(shè)定范圍在300～1000Pa，設(shè)備的極限真空為1Pa，壓升率≤0.65L/h，真空泵抽真空能力極限為0.5Pa，抽真空狀態(tài)將一直保持到輝光結(jié)束；

4、工作腔內(nèi)的壓力到達基礎(chǔ)壓力時，開始充入工藝氣體，不同材質(zhì)選擇不同的工藝氣體，一般流量控制在160SCCM（即標態(tài)下的ml/min）左右，隨著工藝氣體的充入及持續(xù)的抽真空，真空工作腔內(nèi)壓力將達到一個臨時的動態(tài)平衡，一般情況下為40Pa左右；

5、當達到臨時動態(tài)平衡時，并持續(xù)保持5s后開始輝光放電，對工件表面進行等離子清洗，根據(jù)不同的清洗工件可以選擇不同的輝光放電功率及輝光時間，一般可設(shè)置成功率幾百瓦，輝光時間幾分鐘到幾十分鐘不等；

6、輝光放電計時結(jié)束，凈化開始，充入的氮氣起到快速破真空以及形成保護氣氛的作用，這一步也可以省略，在清洗半導體元器件時可能會通入保護氣氛起到凈化作用；

7、當真空工作腔內(nèi)的壓力接近常壓時，凈化停止，以防止高壓的氮氣流沖擊倉門導致危險，平衡開啟，使常壓空氣進入真空工作腔內(nèi)直至倉門能夠開啟；

8、清洗完畢，打開真空腔門，取出被清洗產(chǎn)品，一個清洗流程結(jié)束。

圖1.3 真空等離子清洗機運行流程圖

以上就是國產(chǎn)等離子清洗機廠家納恩科技關(guān)于真空等離子清洗機運行原理的簡單介紹，等離子清洗是依靠特定物質(zhì)等離子體中的高能粒子流沖擊需要清潔的物體表面，產(chǎn)生物理沖擊（如氬等離子體）或化學反應(yīng)（如氧等離子體）來實現(xiàn)去除物體表面污漬的功能。