等離子清洗機(jī)主要技術(shù)參數(shù)分析

文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2022-06-02

等離子清洗技術(shù)是利用等離子體高能轟擊、活化反應(yīng)等物理化學(xué)方法，將污染物從工件上剝離去除的一種工藝方法。根據(jù)等離子清洗的原理及工藝特點，分析知等離子清洗機(jī)主要清洗關(guān)鍵工藝參數(shù)包括清洗氣體種類、清洗壓力、射頻功率、清洗時間等。

等離子清洗機(jī)主要技術(shù)參數(shù)分析如下：

1）工藝氣體選擇及清洗機(jī)理
清洗氣體的選擇是等離子清洗最關(guān)鍵的因素，工藝氣體選擇和清洗機(jī)理主要分以下幾種：

氬氣和氮氣：氬氣與氮氣都屬于不活潑氣體，利用高速粒子沖擊進(jìn)行物理清洗。通過物理撞擊破壞基板分子鍵，提高表面微粗糙度。

氧氣和氫氣：氧氣化學(xué)性質(zhì)比較活潑，具有較強(qiáng)的氧化性，氧氣等離子清洗主要是通過與污染物發(fā)生氧化反應(yīng)來清洗物質(zhì)表面，實現(xiàn)表面狀態(tài)改性。氫氣化學(xué)性質(zhì)活潑，具有很強(qiáng)的還原性，在清洗過程中可以將氧化物還原實現(xiàn)清洗作用。

混合氣體：將不活潑氣體與活潑氣體進(jìn)行組合，可以同時利用物理過程和化學(xué)反應(yīng)實現(xiàn)多重清洗效果。比如清洗采用氬氣與氫氣混合氣體，首先通過氬氣沖擊使物體表面結(jié)構(gòu)活化，再通過氫氣的還原作用清洗，可以增加粗糙程度，增強(qiáng)結(jié)合強(qiáng)度。還原性、氧化性、物理清洗三種清洗原理示意圖如圖1所示。

氫氣、氧氣、氬氣三種氣體等離子清洗三種原理

（2）清洗壓力
清洗壓力描述的是等離子清洗機(jī)密閉腔體內(nèi)的壓強(qiáng)，氣體物質(zhì)在真空狀態(tài)下外加高頻電場，會出現(xiàn)輝光放電現(xiàn)象，成為等離子體，當(dāng)?shù)入x子體將被清洗基板包圍便開始清洗，真空環(huán)境有助于反應(yīng)進(jìn)行，利用清洗過程，一般控制真空狀態(tài)壓強(qiáng)10Pa左右，清洗壓強(qiáng)不超過100Pa。

（3）射頻功率及清洗時間
清洗射頻功率與清洗時間都是等離子清洗十分重要的工藝參數(shù)，一般對于同一基板來說，在保證能夠激發(fā)的前提下，一定范圍內(nèi)射頻功率與清洗時間成反比例關(guān)系，射頻功率越大，清洗時間越短；射頻功率越小，清洗時間越長。

以上就是國產(chǎn)等離子清洗機(jī)廠家納恩科技關(guān)于等離子清洗機(jī)主要技術(shù)參數(shù)分析的簡單介紹，不同的工藝參數(shù)設(shè)置直接影響等離子體清洗效果,因此針對不同的清洗對象和制程要求應(yīng)該設(shè)置適當(dāng)?shù)墓に噮?shù)以便進(jìn)行清洗?？梢岳谜辉囼灧▽Φ入x子清洗機(jī)工藝參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化，得出最佳的等離子清洗工藝參數(shù)。