微波等離子清洗機(jī)的三種清洗模式介紹

文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2022-06-01

微波等離子清洗機(jī)可分為三種模式，即順流模式、旋轉(zhuǎn)模式及ECR模式。由于激發(fā)頻率高，離子動(dòng)能小，離子濃度高，化學(xué)等離子作用在微波等離子體中占主要部分，可以實(shí)現(xiàn)更均勻有效地清洗，在清洗中幾乎沒有物理等離子體所產(chǎn)生的物理沖擊和濺射現(xiàn)象，所以微波等離子清洗機(jī)在一些敏感器件制程中的去膠和清洗工藝中具有不可替代性。

順流及旋轉(zhuǎn)清洗模式原理

順流模式及旋轉(zhuǎn)模式微波等離子清洗屬于普通的微波等離子體系統(tǒng)，其微波反應(yīng)腔中不存在穩(wěn)態(tài)磁場(chǎng)，此時(shí)微波能量耦合是通過彈性碰撞以及非彈性碰撞實(shí)現(xiàn)的。而通過碰撞的方式將微波能量傳遞給電子的關(guān)鍵是碰撞幾率和饋入微波能量，如果要使電子的能量達(dá)到一定程度，就必須增大電子密度或者增加饋入微波的能量，增加電子密度意味著對(duì)氣體的成分及密度要求較高，而氣體密度的增大會(huì)對(duì)系統(tǒng)的穩(wěn)定工作造成影響；增加饋入微波的能量則需要增加微波源的功率、或者減少微波傳輸系統(tǒng)的損耗，而在工程上這些都是要受到具體條件限制的。這些問題就造成了普通微波等離子體系統(tǒng)很難產(chǎn)生高密度、高均勻度的等離子體，無法滿足一些特殊工藝的要求。

電子的有效碰撞頻率是放電氣壓的函數(shù)，研究表明，對(duì)于氦氣，微波激發(fā)頻率為時(shí)，維持無磁場(chǎng)放電的氦氣氣壓范圍是—。在低氣壓下≤時(shí)電子和中性粒子、電子和離子碰撞平均自由程都很長(zhǎng)，即電子的有效碰撞頻率很小，在此條件下為維持無磁場(chǎng)放電需要較高的微波輸入功率和高值的諧振腔體，這是難以做到的。

因此普通微波等離子體系統(tǒng)多作為一種對(duì)化學(xué)反應(yīng)的催化手段應(yīng)用在化工領(lǐng)域，或應(yīng)用于一些基礎(chǔ)的材料處理領(lǐng)域，這些領(lǐng)域都對(duì)激發(fā)產(chǎn)生的等離子體密、度均勻度要求較低。而在大規(guī)模集成電路制造工藝、高質(zhì)量材料表面改性處理等領(lǐng)域，對(duì)等離子體的密度、均勻度、穩(wěn)定度都要求很高，普通微波等離子體系統(tǒng)或者不能勝任、或者需要靠大幅度增加系統(tǒng)復(fù)雜性和成本的方法才能夠滿足要求。

ECR清洗模式原理

電子回旋共振（ECR）微波等離子體系統(tǒng)是微波源與磁場(chǎng)共同組合的一種等離子體產(chǎn)生法，電子在磁場(chǎng)中作旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，當(dāng)磁場(chǎng)強(qiáng)度越來越強(qiáng)時(shí)，電子旋轉(zhuǎn)的速度會(huì)越快，當(dāng)磁場(chǎng)強(qiáng)度與微波源頻率相近時(shí)產(chǎn)生共振，此共振現(xiàn)象有利于電子吸收微波的能量，并擁有較高能量的電子，有助于等離子體的產(chǎn)生。微波等離子體系統(tǒng)與傳統(tǒng)的微波等離子體系統(tǒng)相比，具有更加優(yōu)良的綜合指標(biāo)，而且對(duì)微波源和微波反應(yīng)腔的要求大為降低，提高了材料表面改性處理、微電子、大規(guī)模集成電路制造等領(lǐng)域中的低溫等離子體加工水平。

以上就是國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)廠家納恩科技關(guān)于微波等離子清洗機(jī)的三種清洗模式的簡(jiǎn)單介紹。微波等離子清洗具有激發(fā)頻率高、自偏壓小、離子動(dòng)能小、離子濃度高、化學(xué)反應(yīng)強(qiáng)等特點(diǎn)，可以有效避免靜電損傷、實(shí)現(xiàn)均勻的三維清洗，與傳統(tǒng)等離子清洗（超聲或射頻）相比，微波等離子清洗可以產(chǎn)生具有優(yōu)良特性的等離子體，所以微波等離子清洗機(jī)在集成電路制程中，尤其是可靠性要求極高的軍用集成電路生產(chǎn)過程中發(fā)揮著舉足輕重的作用，市場(chǎng)前景十分廣闊。